◆ 倾听您的每一个需求 ◆ 重视设备每一个细节 ◆ 确保每一台设备质量 ◆ 真诚对待每一位客户
13253589555
现在位置: 首页 > 成功案例
时间: 2024-06-12 13:15:13 | 作者: 成功案例
,与国际领先水平差距更大:世界最领先水平已经到了5nm水平,而我国才达到90nm水平。
可能是因为我国光刻机技术与国际领先水平差距巨大的原因,国人的的注意力都集中在光刻机上,而忽视了另一种在芯片制作的完整过程中跟光刻机起到同等及其重要的作用的设备——刻蚀机。
据国内技术最先进的刻蚀机生产商中微半导体设备有限公司(简称中微公司)最新披露,该公司的5nm高端刻蚀机设备已经获得行业领先客户——台积电的批量订单。
5nm制程代表了现阶段全球芯片加工技术的顶配水平,台积电在其世界上最先进的5nm芯片生产线上采用我国中微公司的高端刻蚀机,足以说明我们国家在刻蚀机领域技术的全球领先性。
光刻机和刻蚀机同样是芯片制造的关键设备,刻蚀机在我国企业地努力下已达到了世界领先水平。相信在不久的将来,通过我国政府的统一部署与协调,和全国科研工作者的努力攻关,我国光刻机技术一定能实现突破,赶上甚至超过世界最高水平!
半导体电子产业的发展,实现国产替代。依托清华大学盖姆石墨烯中心、中科院深圳
的中国散热品牌 /
由 广东畅能达科技发展有限公司 自主研发的高热流密度散热相变封装基板,其散热性能远超于现有的金刚石铝和金刚石铜。该
机和光刻机的区别 /
今天,四维图新旗下杰发科技正式对外宣布,截止2023年12月底,公司车规级
常用设备的原理及结构 /
中C4F8能起到钝化作用? /
工艺中使用SF6作为主刻步气体,并通过加入N2以增加对光刻胶的选择比,加入O2减少碳沉积。在W回刻工艺中分为两步,第一步是快速均匀地刻掉大部分W,第二步则降低
速率减弱负载效应,避免产生凹坑,并使用对TiN有高选择比的化学气体进行
筑生态,万物智联赢未来》的主题演讲。他围绕万物智联趋势,分享OpenHarmony四大
各有什么利弊? /
级产品解决方案,双方将合力推动GNSS导航定位模组规模化应用与卫星定位
(Photolithography)是一种在微电子和光电子制造中常用的加工
元件。它的基础原理是利用光的化学和物理作用,通过光罩的设计和控制,将光影投射到光敏材料上,形成所需的图案。
采用144核,能效提升66%!英特尔至强6处理器震撼上市,加速数据中心升级
基于Arm Cortex-CM85内核的RA8D1作为控制器 通过MIPI DSI实现LVGL显示
重磅!英特尔发布intel3制程至强6能效核处理器,赋能数据中心能效升级
I.MX6ULL-飞凌 ElfBoard ELF1板卡 - 如何在Ubuntu中编译OpenCV库(X86架构)
嵌入式学习-飞凌ElfBoard ELF 1板卡 - 如何在Ubuntu中编译OpenCV库
无刷电机用的单电阻采样的FOC,拿天线贴着电机线或者贴近采样芯片,电机就会停转
上一篇:热压机模具油加热器加热温度稳定误差小
下一篇:玉溪市人民政府
魏经理 手机:13253589555
E-mail:3607648555@163.com
联系地址:河南省郑州市荥阳开发区
版权所有:安博体育电竞ios官网入口-安博官方网站手机版
备案号:豫ICP备12008643号-53 网站地图